行業背景
半導體晶圓製造、晶片封裝與液晶面板生產對空氣潔淨度要求極為嚴苛,微粒污染會直接導致良率下降與缺陷率上升。按 ISO 14644 標準,微影、蝕刻、沉積等關鍵工藝區需維持 ISO Class 1–5 的潔淨環境,依賴末端高效過濾長期穩定運行。
濾材應用方案
創潔濾材為半導體廠房提供 H13–H14 級超細玻纖 / 熔噴濾材,適配 FFU 風機過濾單元、潔淨天花模組與風道末端,過濾效率 ≥99.95% @MPPS,初阻力低、容塵量大,保障潔淨度長期穩定。
穩定的低出風阻力與批次一致性,幫助客戶降低空調能耗、延長維護週期,滿足晶圓廠 7×24 小時連續運行的高可靠性要求。